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大陆发展记忆体技术出师不利

* 来源 : * 作者 : * 发表时间 : 2017-12-11

台媒:大陆发展记忆体技术计划出师不利

大陆希望掌握记忆体生产技术的脚步全力向前,司法大刀更是亦步亦趋紧跟着,近期美光(Micron)在美国对联电和大陆福建晋华的DRAM研发计划,提出侵害营业秘密诉讼,至于南亚科则是离职员工窃取营业机密欲投入大陆记忆体公司任职,桃园地检署在侦查后决定提起公诉,预计这一波DRAM产业的司法攻防战将愈演愈烈。

    美光在美国加州提起民事诉讼,控告联电及合作伙伴大陆福建晋华侵害其DRAM营业秘密,让好不容易歇息的半导体官司战火再度热起来。值得注意的是,过去美光的司法大刀都是朝着台系半导体大厂联电而来,但这次在美国官司案,传出美光也把联电的DRAM合作伙伴大陆福建晋华也一起来进来提告,DRAM司法战线拉长到两岸半导体产业。