七纳米败象已露？三星改畅谈三纳米技术路图

三星周二举行晶圆代工技术论坛(Samsung Foundry Forum)，同时揭露发展三纳米制程的技术路图，以及七纳米投产进度，将抢攻高端运算与联网装置市场。

三星晶圆代工部门总裁郑恩升(E.S. Jung)表示，三纳米制程将首度导入闸极全环(GAA)电晶体，这是下一世代电晶体架构，并将配合极紫外光（EUV）微影设备，来克服物理限制。

三星七纳米是第一个采用EUV技术的半导体制程，按计划将在2018下半年投产。据三星表示，关键矽智财（IP）已在开发，将于2019年上半年完成。

有趣的是，三星表示七纳米将应用在网路、汽车领域，而非效能要求较高的绘图处理器（GPU），意谓着三星七纳米技术似乎未能获得Nvidia与超微青睐。

超微日前已宣布下一世代Zen 2中央处理器与Navi绘图处理器，都将交予台积电以七纳米制程代工。