三星电子正努力改善5nm工艺良率

三星电子在去年4月宣布已顺利研发出了基于极紫外光刻的5nm芯片制程工艺，并已准备好为客户提供样品。日前也有报道称三星电子已在利用5nm工艺为高通代工骁龙875G和735G处理器。
但从产业链人士透露的消息来看，三星电子的5nm工艺在良品率方面似乎还不太乐观，正在努力改善5nm工艺的良品率，是否会影响高通下一代5G旗舰智能手机处理器的推出，还有待观察。
三星电子官网资料显示，与7nm工艺相比，其5nm工艺，能使芯片的逻辑区域效率提升25%，功耗降低20%，性能提高10%。