DRAM制程进入1α世代　美光：不急于导入EUV

美光(Micron)近日宣布，该公司采用1α(Alpha)制程生产的DRAM产品，已开始在台湾地区的生产基地量产，并向市场供货。美光是全球DRAM业者中，第一家将1α制程推向量产的业者，未来该公司还将继续发展1β(Beta)、1γ(Gamma)、1δ(Delta)制程技术，并会在适当的时间点导入极紫外光(EUV)技术。但至少就目前看来，并无采用EUV的迫切性。
美光执行副总裁暨事业长Sumit Sadana表示，新的1α制程可生产出业界功耗最低的行动 DRAM，让资料中心、用户端装置、消费性商品、工业应用和车用领域的客户，都能享受到更省电的DRAM，为应用所带来的好处。与先前基于1z制程DRAM相比，基于1α制程的DRAM，功耗降低15%，密度则大幅提高40%。
此一里程碑进一步巩固了美光的竞争优势，美光先前已推出全球最快的GDDR6X绘图记忆体，176层3D NAND快闪记忆体也已经量产供货，速度均领先业界。这也是美光自创业以来，首度在DRAM、NAND Flash两个领域同时取得技术领先优势。
但美光的技术研发脚步不会停下。在DRAM方面，美光已经开始设想未来10年的技术发展路径。除了已经量产的1α制程外，1β、1γ与1δ制程，都已经出现在该公司的技术发展路线图上。
Sadana透露，虽然长期来看，要生产电晶体尺寸更小的DRAM，最终一定得改用EUV微影，但目前EUV的成本仍过于昂贵，且没有非使用EUV不可的理由。多重曝光(Multi-patterning)等技术，还可以让美光继续沿用现有的微影设备一段时间。待EUV技术的成本降低后，导入的时机才会成熟。
美光在台湾的晶圆厂已开始量产使用1α制程的DRAM产品，首批产品是为着重运算需求的客户提供DDR4记忆体，以及适用于消费性PC的Crucial DRAM产品。美光LPDDR4也已开始向行动客户送样进行验证。美光将在2021年持续推出使用此制程技术的其他新产品。