美光在日投资37亿美元 导入EUV技术

日本首相岸田文雄18日会见包括中国台湾台积电等共7家全球半导体企业高层，会后美光即宣布在日本政府支持下，未来几年内，规划在日投资5,000亿日圆（约37亿美元）引进极紫外光（EUV）晶片制造设备，于广岛厂打造新一代的记忆体晶片。
先前已有传闻指出，美光准备接受日本政府约2,000亿日圆补助，向荷兰半导体制造设备商艾司摩尔（ASML）购入EUV设备，在广岛厂生产DRAM晶片。
最新的EUV晶片制造设备将应用于生产1-gamma晶片。美光发布声明指出，该公司是第一家引进EUV技术至日本的半导体企业，并形容这是“全世界最复杂精密的半导体制程”，预料自2025年起，将在台湾与日本把EUV导入1-gamma制程量产。
日本期盼吸引企业投资，重振自家晶片产业，目前日本占全球晶片市场比重约10％，远低于1980年代末期的50％。岸田与台积电、英特尔、三星等晶片大厂高层召开会议时强调，日本政府将提供“激进政策”，鼓励业者扩大在日投资。
谈到为美光投资案提供的支持时，日本经济产业大臣西村康稔（Yasutoshi Nishimura）在会后表示，日政府将会动用晶片相关预算4,500亿日圆的一部分作为资金来源。美光总裁暨执行长梅罗特拉（Sanjay Mehrotra）指出，过去十年来，美光广岛厂一直是记忆体产业多项领先技术的研发与生产重心，“我们很自豪能首度引进EUV至日本，在广岛厂采用1-gamma制程生产”。
路透报导，美光将使用这笔补助资金，向ASML购入EUV晶片制造设备，除了日本政府的补助，美光也将投入资金，并取得广岛当地的补助。