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三星削减ASML新一代EUV光刻设备采购
* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2024-08-19
据台湾《DIGITIMES》报道,三星电子已减少对ASML(ASML.US)新一代极紫外光(EUV)光刻设备的采购,同时,双方在南韩共同建设的研发中心合作计划也面临可能告吹的风险。目前尚不清楚这一变化是否会影响到三星新一代EUV量产技术的研发以及南韩构建芯片生态系统的进程。
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威刚对两大存储器市场持乐观态度,将采取稳健的库存策略
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中国积极采购HBM,下半年DRAM价格或将持续上涨
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