三星预计年底流片第六代HBM,SK海力士紧随其后
* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2024-08-20
据韩国媒体TheElec报道,三星正筹备在今年年底进行第六代高带宽内存(HBM)的流片工作。
流片作为芯片设计的最后环节,意味着公司将设计蓝图交付给芯片代工厂进行制造。据悉,HBM4的样品将于年底完成流片,并计划于明年初推出,2025年底开始大规模商业生产。
通常情况下,芯片原型会在流片后的三到四个月内制作完成。预计三星将在审查样品后对设计进行调整并优化工艺步骤。
与此同时,SK海力士也计划在明年晚些时候开始生产其HBM4。
值得注意的是,三星和SK海力士均计划利用代工厂生产芯片上的逻辑芯片,而非沿用上一代HBM芯片的DRAM工艺。三星将采用自家的4nm代工工艺制造逻辑芯片,而SK海力士则选择台积电的5nm和12nm工艺。
在HBM的内存核心芯片方面,三星计划使用Gen 6 10nm(1c)DRAM,而SK海力士则在权衡是否采用与三星相同的1c DRAM,或是选用Gen 5 10nm(1b)DRAM。有消息人士透露,SK海力士原本计划使用1b DRAM,但考虑到三星的选择,目前正在考虑跟进。
这两家公司的HBM4产品预计将应用于英伟达和AMD未来的AI加速器中。
流片作为芯片设计的最后环节,意味着公司将设计蓝图交付给芯片代工厂进行制造。据悉,HBM4的样品将于年底完成流片,并计划于明年初推出,2025年底开始大规模商业生产。
通常情况下,芯片原型会在流片后的三到四个月内制作完成。预计三星将在审查样品后对设计进行调整并优化工艺步骤。
与此同时,SK海力士也计划在明年晚些时候开始生产其HBM4。
值得注意的是,三星和SK海力士均计划利用代工厂生产芯片上的逻辑芯片,而非沿用上一代HBM芯片的DRAM工艺。三星将采用自家的4nm代工工艺制造逻辑芯片,而SK海力士则选择台积电的5nm和12nm工艺。
在HBM的内存核心芯片方面,三星计划使用Gen 6 10nm(1c)DRAM,而SK海力士则在权衡是否采用与三星相同的1c DRAM,或是选用Gen 5 10nm(1b)DRAM。有消息人士透露,SK海力士原本计划使用1b DRAM,但考虑到三星的选择,目前正在考虑跟进。
这两家公司的HBM4产品预计将应用于英伟达和AMD未来的AI加速器中。