三星削减新型EUV采购量，ASML合作研发项目遇阻

据韩国媒体消息，三星电子近期决定减少其对极紫外光（EUV）光刻设备的采购计划，这一举措可能影响到其与荷兰半导体设备制造商ASML的合作研发项目。
根据Business Korea在20日的报道，2023年12月12日，韩国总统尹锡悦访问了ASML位于荷兰的总部，同行的还有荷兰国王威廉-亚历山大、三星会长李在镕、SK集团董事长崔泰源以及ASML首席执行官Peter Wennink。此次访问期间，三星与ASML签署了备忘录（MOU），计划在韩国都会区共同建设EUV研发中心。然而，仅半年时间，两家公司之间的合作项目就出现了变数。
报道称，三星在7月初的会议上通知ASML，决定削减对下一代High-NA EUV（高数值孔径极紫外光）光刻设备的采购量。两家公司预计将很快修改相关合同。
三星原计划在未来十年内采购超过三台ASML的下一代设备（包括EXE:5200、EXE:5400和EXE:5600）。但目前，三星仅决定引进EXE:5200，对于是否引进后续型号，三星将重新考虑。这一决定是在全永铉被任命为设备解决方案（DS）事业群负责人后，重新审视了相关项目和投资计划的结果。
业内人士表示，原定于京畿道华城市的研发中心土地采购及设计与批准程序已在进行中，但由于三星削减了设备采购量，相关程序已完全停止。ASML与三星合作的研发中心是否需要更改地点或直接取消，将在未来的讨论后决定。
不过，一名三星高层依然表示，High-NA EUV光刻设备的引进计划没有改变，两家公司合作的研发中心将会在最合适的地点设立。
一位业内专家指出：“如果两家公司能够遵守原定合同，三星不仅能够比竞争对手更早引进先进的EUV设备，还有机会近距离观察先进EUV技术的发展过程。如果计划发生变化，这些机会可能会丧失。”