ASML的EUV设备价格高昂，台积电有了新选择？先进制程是否会因此变化

ASML的EUV设备售价高达3.8亿美元，这一价格使得其在半导体行业中的使用面临挑战。现在，新的替代方案已经出现。日本科学家开发了一种简化版的EUV设备，其成本显著降低，若未来能够实现量产，这可能对整个半导体行业造成影响。

ASML和台积电是全球半导体供应链中最为关键的两家公司。台积电在芯片制造方面占据领先地位，而ASML则凭借其独特的技术制造了半导体先进制程所需的关键设备。ASML生产的极紫外光（EUV）设备的售价高达3.8亿美元，由于其高昂的价格，台积电相关负责人曾透露，A16先进制程节点可能不会采用这一设备。
根据《Tom's Hardware》报道，日本冲绳科学技术研究院的Tsumoru Shintake教授开发了一种简化的EUV设备，其成本比ASML的设备更具竞争力。如果这种新设备能够投入量产，可能会对半导体产业的发展产生深远影响。
新设备在光学投影方面仅使用了两个镜面，相比传统的六镜面配置有所不同。这种光学系统的挑战在于，镜面必须精确对齐，以确保系统的光学性能保持稳定。
报道指出，新系统能够将超过10%的初始EUV能量传递到晶圆，而标准设备的传递率仅约1%。这一突破性进展不仅提高了设备的可靠性，还减少了维护的复杂性。此外，低功耗设计意味着该设备不需要复杂且昂贵的冷却系统。
该新系统的性能已通过光学模拟软件进行严格验证，证明了其在生产先进半导体方面的潜力。冲绳科学技术研究院已经为该技术申请了专利，并表示已准备好进行商业化部署。