英特尔新观点影响ASML前景，外资调整目标价

近日，有关英特尔对于曝光机在半导体制造中的重要性发表了新的看法，这一变化引起了市场对High-NA EUV（极紫外光刻）技术前景的关注。与此同时，有外资机构下调了ASML的目标价，从795欧元降至759欧元，每股收益预期减少约5%。尽管如此，ASML的股票评级依然保持为“买入”。
2023年末，ASML向英特尔交付了首套型号为TWINSCAN EXE:5000的High-NA EUV曝光机，这款设备原本被视为推动先进芯片开发和下一代处理器生产的关键。然而，近期各晶圆代工厂纷纷表现出减少对High-NA EUV依赖的趋势，推迟了其导入时间。
根据一位不愿透露姓名的英特尔董事的说法，随着新型晶体管设计如GAAFET（环绕栅极场效应晶体管）和CFET（互补场效应晶体管）的发展，这些设计能够从四面八方包裹栅极，更倾向于通过蚀刻去除多余材料而非增加晶圆曝光时间来缩小电路尺寸，从而降低了曝光机的重要性。这表明，在芯片生产的横向发展方面，High-NA EUV的重要性可能没有之前认为的那么突出。
尽管短期内市场需求有所放缓，但长期来看，随着人工智能（AI）浪潮驱动芯片技术的不断进步，投资机构对ASML产品的长期需求仍然持乐观态度。这是因为最新一代的半导体制程普遍需要先进的曝光设备支持，市场需求总体上仍处于上升趋势。
ASML将于7月16日公布2025年第二季度财报，届时将能更清楚地了解公司的营收状况及未来展望，这对于评估全球曝光机市场的走向具有重要意义。面对技术发展的不确定性，ASML是否能够继续保持其在半导体设备制造领域的领先地位，值得我们持续关注。同时，这也提醒着整个行业，技术创新和市场需求的变化总是相伴而行，企业需灵活应对以抓住未来的机遇。