中芯国际测试国产DUV光刻机

综合国内媒体报道，中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇生产的深紫外线（DUV）光刻机。这款光刻机采用浸没式技术，类似于荷兰ASML的技术。过去，中芯国际高度依赖从ASML进口的DUV设备，但由于美国的出口管制，只能获得较旧型号。
知情人士透露，中芯国际正在测试一台28纳米的DUV设备，并利用多重曝光技术生产7纳米芯片。尽管该设备也能用于生产5纳米处理器，但良率较低，无法进一步制造更先进的产品。如果能够量产这种先进的DUV光刻机，这将是中国在突破美国芯片出口管制方面取得的重大胜利，不仅能减少对西方技术的依赖，还能提升先进AI处理器的产能。
《金融时报》也报道了类似的消息，指出中芯国际测试的设备为上海新创公司宇量升研发的28纳米DUV光刻机，并尝试通过“多重图案技术”制造更高阶的7纳米芯片。初步试验结果相对乐观，但目前仍不清楚该设备是否能真正投入量产。
新型DUV设备通常需要至少一年的调整期，才能达到稳定性和良率，符合量产条件。此次测试的设备采用了浸没式技术，与ASML的作法类似。如果中芯国际能让这款DUV光刻机顺利进入量产，不仅有助于中国半导体业摆脱对美国及西方技术的依赖，还可能提升先进AI芯片的产能，减缓美国出口管制带来的冲击。
中国的DUV技术研发仍面临诸多挑战。虽然宇量昇科技的机器大部分零件都是国产，但也有一些零件来自国外。该公司正在努力尽快实现所有零件的国产化。尽管中芯国际试验的早期结果令人鼓舞，但目前仍不清楚该机器是否以及何时可以用于大规模芯片生产。
新的DUV工具通常需要至少一年的时间进行多次调整才能达到稳定性和产量。正在测试的机器采用所谓的浸没技术，类似于ASML采用的技术。中芯国际和中国其他芯片制造商一直依赖ASML生产的设备，但近年来由于美国出口管制，获取新设备的机会大幅缩减。
特别是最先进的极紫外光（EUV）光刻机已被禁止输往中国，导致陆厂无法取得能生产最高端芯片的关键工具。目前，EUV设备仍是全球制造尖端芯片的唯一途径，包括英伟达在内的先进芯片皆依赖该技术。
随着白宫管制持续收紧，中国不得不加快发展自主设备，以期在AI芯片竞赛中维持一定竞争力。尽管中芯国际测试国产DUV光刻机的初步结果令人鼓舞，但仍需克服诸多技术和量产难题。如果成功，这将是中国半导体行业迈向技术自主的重要一步，同时也为全球半导体市场注入新的活力。
在当前复杂多变的国际环境下，中国半导体行业的这一举动无疑具有重要意义。对于投资者和行业观察者来说，密切关注这些变化将是至关重要的。