SK海力士加大EUV设备投资，提升半导体制造能力

SK海力士计划到2027年增购约20台极紫外（EUV）光刻设备，使现有设备数量翻倍，达到全球前三水平。每台设备价值3000亿至5000亿韩元，总投资预计至少6万亿韩元。
新增设备将部署于清州M15X工厂和利川M16工厂，以增强下一代DRAM和HBM的生产能力。EUV技术能刻画10纳米级电路，提高晶圆产出及产品性能。该技术首先支持年底量产的HBM4用第五代DRAM（1b），随后是第六代DRAM（1c），最快明年启动第七代DRAM（1d）量产转移。
此外，这一投资还将推动EUV专用材料需求增长，SK海力士已与JSR、杜邦等供应商协商扩大供应。关于具体细节，公司暂未透露更多信息。
9月3日，SK海力士举行了新一代高数值孔径EUV光刻机的搬入纪念仪式，展示了其在先进制程技术上的重要进展。通过这些举措，SK海力士不仅提升了自身竞争力，也为行业发展贡献力量。