SK海力士研发新型HBS高带宽存储技术 助力移动设备突破AI性能瓶颈
* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2025-11-11
随着人工智能加速向终端设备延伸,智能手机等移动装置对本地化AI算力的需求日益迫切。然而,受限于传统存储架构的带宽与延迟瓶颈,端侧AI性能提升面临挑战。据韩国媒体ETNEWS报道,SK海力士正积极开发一种名为HBS(High-Bandwidth Storage)的新型高带宽存储技术,旨在通过创新封装方案,显著提升移动设备的数据处理效率。
该技术的核心在于将多达16层的DRAM与NAND闪存颗粒,利用“垂直扇出”(VFO)先进封装工艺进行三维堆叠整合。与当前主流的HBM(高带宽内存)所采用的硅通孔(TSV)技术不同,VFO无需在芯片上钻孔,不仅降低了制造成本,还提升了良率。同时,相比传统的弧形引线键合方式,VFO大幅缩短了内部布线距离,有效减少信号衰减与传输延迟,并凭借垂直结构显著增加I/O数量,从而实现更高的数据吞吐能力。
据悉,HBS设计可直接与智能手机主芯片协同封装,并集成于手机主板之上,为终端AI应用(如实时图像识别、语音交互、大模型推理等)提供低延迟、高带宽的本地存储支持。这一方案有望解决当前移动AI面临的“存储墙”问题——即处理器算力快速提升,但存储带宽和访问速度难以匹配的矛盾。
SK海力士早在2023年便公开VFO技术路线,此次将其应用于DRAM与NAND的异构集成,标志着其在端侧AI存储领域的战略布局迈出关键一步。业内分析指出,在英伟达、高通、联发科等厂商加速推进终端AI芯片的背景下,高性能、低功耗、小体积的存储解决方案将成为智能手机、折叠屏手机乃至AR/VR设备实现流畅AI体验的重要支撑。
尽管HBS目前仍处于开发阶段,尚未公布具体量产时间表,但其技术路径已显现出对传统eMMC、UFS存储架构的潜在替代可能。未来,随着生成式AI在移动端的普及,融合高速缓存与大容量存储的新型一体化方案,或将成为下一代智能终端的关键竞争力之一。
该技术的核心在于将多达16层的DRAM与NAND闪存颗粒,利用“垂直扇出”(VFO)先进封装工艺进行三维堆叠整合。与当前主流的HBM(高带宽内存)所采用的硅通孔(TSV)技术不同,VFO无需在芯片上钻孔,不仅降低了制造成本,还提升了良率。同时,相比传统的弧形引线键合方式,VFO大幅缩短了内部布线距离,有效减少信号衰减与传输延迟,并凭借垂直结构显著增加I/O数量,从而实现更高的数据吞吐能力。
据悉,HBS设计可直接与智能手机主芯片协同封装,并集成于手机主板之上,为终端AI应用(如实时图像识别、语音交互、大模型推理等)提供低延迟、高带宽的本地存储支持。这一方案有望解决当前移动AI面临的“存储墙”问题——即处理器算力快速提升,但存储带宽和访问速度难以匹配的矛盾。
SK海力士早在2023年便公开VFO技术路线,此次将其应用于DRAM与NAND的异构集成,标志着其在端侧AI存储领域的战略布局迈出关键一步。业内分析指出,在英伟达、高通、联发科等厂商加速推进终端AI芯片的背景下,高性能、低功耗、小体积的存储解决方案将成为智能手机、折叠屏手机乃至AR/VR设备实现流畅AI体验的重要支撑。
尽管HBS目前仍处于开发阶段,尚未公布具体量产时间表,但其技术路径已显现出对传统eMMC、UFS存储架构的潜在替代可能。未来,随着生成式AI在移动端的普及,融合高速缓存与大容量存储的新型一体化方案,或将成为下一代智能终端的关键竞争力之一。






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