光学巨头尼康悄然重返芯片制造设备赛道，挑战ASML垄断地位

曾以精密光学镜头闻名于世的日本企业尼康，正悄然重返半导体制造设备领域，意图在深紫外光（DUV）光刻市场重拾昔日荣光。在过去二十年中，荷兰企业阿斯麦凭借极紫外光（EUV）技术几乎垄断了先进制程光刻设备市场，迫使尼康退出7纳米以下节点竞争。然而，随着全球供应链安全意识觉醒，美国、日本及欧盟纷纷寻求降低对单一供应商的依赖，为尼康提供了重返舞台的战略机遇。目前，尼康正聚焦于成熟制程所需的DUV设备，并积极开发适用于特殊应用（如功率器件、传感器）的定制化解决方案，以差异化路径切入市场。
尼康的回归并非孤例，而是全球半导体设备多元化趋势的缩影。在美国《芯片与科学法案》及日本补贴政策支持下，本土设备制造商获得前所未有的发展窗口。尽管尼康短期内难以撼动阿斯麦在EUV领域的绝对优势，但其在DUV领域的深厚积累仍具竞争力——全球仍有超过70%的芯片采用DUV工艺生产。此外，随着3D DRAM等新技术兴起，对EUV依赖度有望降低，这为尼康等企业提供技术追赶的新赛道。业界专家指出，健康的市场竞争将促进技术创新与成本优化，最终惠及整个半导体产业链。尼康能否借此东风实现复兴，将成为观察全球设备格局演变的重要风向标。