中国半导体设备从蚀刻与PVD突围
* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2026-01-20
ASML凭借高度专业化分工与深度供应链整合,牢牢掌控全球EUV光刻机市场。其设备超10万个零部件中仅15%自产,关键如蔡司镜片精度达原子级别,合作逾三十年并持股深化绑定。相比之下,中国在光刻领域仍处追赶阶段,但在干式蚀刻与物理气相沉积(PVD)等环节已崭露头角。北方华创、中微公司等企业在全球蚀刻设备市占率达6%,PVD市占率更达12%。2025年第三季度,北方华创营收同比增长42.1%,跻身全球设备商第七位。尽管EUV壁垒极高,但中国正通过利基市场突破,逐步构建自主可控的半导体设备体系。在成熟制程扩产潮带动下,清洗、薄膜沉积、量测等设备需求旺盛,为国产厂商提供广阔空间。同时,国家大基金三期投入3440亿元,重点支持设备与材料攻关,加速产业链本土化进程。虽然高端光刻短期内难有突破,但“非光刻”设备的集群式崛起,正为中国半导体制造提供坚实支撑。






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