力积电澄清美光技术授权传闻：合作尚待正式签约

针对市场盛传“美光将授权1Y纳米DRAM制程给力积电”，中国台湾半导体厂力积电于1月19日发布重大讯息澄清，称相关报道属臆测，与实际进度不符。公司强调，虽已于1月17日与美光同步公布合作意向书，涵盖铜锣厂出售及潜在代工合作，但具体条款、技术授权范围及执行细节仍需后续协商并正式签约后方能确定。力积电副总经理谭仲民表示，此举旨在避免外界误解。值得注意的是，力积电董事长黄崇仁此前透露，美光已通过预付款方式将其纳入HBM后段制造供应链，并将协助力积电切入下一代DRAM制程。尽管技术授权尚未落定，但市场已积极反应，力积电股价应声涨停，显示投资者对其与国际大厂深化合作的长期期待。外资估算，此次出售可为力积电带来约330亿元新台币的一次性收益，显著改善2026年每股盈余，并每年节省13亿元折旧费用。未来，力积电计划将P5厂设备移至P3厂，聚焦逻辑与HBM后段整合，打造高附加值代工平台。