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三星、SK海力士加速扩产高端NAND,拟月增产4-5万片晶圆应对AI需求

* 来源 : * 作者 : admin * 发表时间 : 2026-02-03
在人工智能应用快速落地的推动下,全球对高性能存储的需求持续攀升。曾因资源向DRAM倾斜而多次推迟的尖端NAND扩产计划,如今在三星电子与SK海力士内部全面重启。据韩媒报道,两家公司已确定于2026年第二季度启动针对第9代3D NAND(V9)的“转换投资”,以缓解日益紧张的供应局面。
三星自2024年9月率先量产280层V9 NAND,但初期仅在韩国平泽小规模投产,月产能约1.5万片晶圆。随着AI服务器和数据中心对高密度闪存需求激增,三星正将扩产重心转向中国西安X2工厂,计划将其从旧世代NAND产线全面转为V9生产。业内预估,此次转换规模达月产4万至5万片晶圆,配合平泽P1厂区的同步投入,2027年起V9产能将显著提升。
SK海力士则聚焦321层技术——目前业界最高层数之一,计划在清州M15工厂将V9月产能从2万片增至3万片。尽管增幅看似有限,但在设备交付周期长、工艺复杂度高的背景下,已是重大加码。此举也凸显其在3D NAND微缩路径上的领先策略。
过去数年,两大韩厂资本开支几乎全部投向HBM和先进DRAM,导致NAND产能增长停滞。然而,AI推理、边缘计算及智能终端的兴起,正强力拉动企业级SSD和高能效闪存需求。机构指出,2026年数据中心或将消耗全球近七成NAND产能,传统消费电子领域面临严重挤出效应。
尽管CJCC(长江存储)等中国厂商也在推进200层以上NAND量产,但其产能主要服务本土市场,短期内难改全球供需格局。因此,三星与SK海力士的扩产,成为稳定高端供应链的关键举措。
不过,先进NAND制造依赖阿斯麦EUV及精密刻蚀设备,交期普遍超一年,且300层以上堆叠良率爬坡难度大,实际产能释放仍需时间。综合来看,本轮扩产是AI基础设施建设的必然延伸,而非短期周期反弹。预计2027年前,高端NAND仍将维持紧平衡,价格高位运行态势难改。