阿斯麦技术突破，2030年前芯片产量有望提升50%

全球光刻设备龙头阿斯麦（ASML）宣布，已找到提升芯片制造设备光源功率的方法，目标2030年前将芯片产量提升50%，缓解全球芯片产能紧张。
《路透》援引其专家观点，此次技术并非噱头，可稳定输出1000瓦功率，满足主流芯片厂商需求。阿斯麦光刻设备是台积电、英特尔等企业先进芯片生产的核心，其垄断的EUV设备更是7纳米及以下制程的关键，技术突破直接影响全球先进芯片产能。
阿斯麦高管透露，此次核心是将EUV光源功率从600瓦特提升至1000瓦特。EUV功率越强，芯片曝光时间越短，单位时间处理晶圆越多。规划显示，2030年每台EUV设备每小时可处理330片晶圆，较目前220片提升近五成，既能提产又能降本，进一步巩固垄断地位。