SK海力士存储器产线已开始采用韩国本土多晶硅蚀刻设备

据韩媒报导，韩国半导体设备制造商APTC已成功将一种名为LEO WH的新型多晶硅蚀刻套件商业化。此外，还有一种名为NARDO M的新蚀刻套件不仅可以用于蚀刻多晶硅，而且还可以将金属层商业化。
LEO WH是一种多晶硅蚀刻设备。APTC表示，与其前身LEO NK-IC相比，它具有更高的可靠性和精度。静电检查已从之前的4个区域扩展到18个区域。LEO WH的性能与Lam Research的多晶硅蚀刻设备的性能相当。
APTC表示，以上两种设备均已完成了性能评估，并已提供给SK海力士使用。并已与SK海力士达成了410亿韩元的设备供应协议。LEO WH将用于SK海力士的NAND闪存生产线，而NARDO M设备将用于SK海力士的DRAM生产线。
随着SK海力士宣布收购英特尔NAND部门扩大其NAND业务，预计APTC将为SK海力士提供更多生产设备。
全球蚀刻设备制造市场主要由Lam Research，Applied Materials和Tokyo Electron主导，2019年这三家公司占据了80％以上的市场份额。APTC正在与Lam Research和Applied Materials竞争。Tokyo Electron仅生产氧化物蚀刻设备，与APTC不构成竞争关系。